特許
J-GLOBAL ID：200903075220478462

露光装置

発明者：
下村 一郎

下村 一郎 について

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大石 進

大石 進 について

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河野 健

河野 健 について


出願人/特許権者：
株式会社大日本科研

株式会社大日本科研 について


代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-052112
公開番号（公開出願番号）：特開2000-250223
出願日： 1999年03月01日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：
【要約】【課題】 光源からの光を有効に矩形状の光照射領域に照射して、高い解像度で精度よく画像を記録することができる露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】 この露光装置は、矩形状の基板18に矩形状のパターン領域を有するフォトマスク17を介して光を照射することにより、基板18の表面に形成された感光材料の薄膜に対してパターン露光を行うためのものであり、各々対をなす光源12a、12bおよび楕円鏡13a、13bと、折り返しミラー14と、複合レンズ6と、一対のコリメートミラー15、16とを備える。複合レンズ6を通過した光は、コリメートミラー15、16のコリメート機能により平行光となり、フォトマスク17に向けて照射される。
請求項（抜粋）：
矩形状のパターン領域を有するパターン板と矩形状の領域を有する感光材料とを互いに近接配置し、光源から出射された光を複合レンズを介して前記パターン板に照射することにより、前記感光材料に矩形所の画像を記録する露光装置であって、前記パターン板を照射するための矩形状の光照射領域に対応する矩形状のレンズユニットを、縦横方向に各々複数個並列配置することにより構成された複合レンズと、前記複合レンズを構成する矩形状の各レンズユニットの長辺方向に沿って配置された複数の光源と、前記複数の光源に各々対応して配設され、前記複数の光源から出射される光を前記複合レンズに集光する複数の楕円鏡と、前記複数の光源から出射され前記複合レンズを通過した光をコリメートする第1のコリメート手段と、前記第1のコリメート手段によりコリメートされた光をさらにコリメートして前記パターン板に照射するための第2のコリメート手段と、を備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 515 D
Fターム (11件)：
2H097AA02 ,  2H097BB03 ,  2H097CA03 ,  2H097CA12 ,  2H097GA45 ,  5F046BA02 ,  5F046CA01 ,  5F046CB13 ,  5F046CB14 ,  5F046CB17 ,  5F046DA16
引用特許：
審査官引用 (5件)
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