薄膜状三次元微粒子構造体の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：磯村雅俊 , 渡邉昌幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-384736
公開番号（公開出願番号）：特開2005-144312
出願日： 2003年11月14日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：

【課題】 Convective Self-Assembly 法において、均一な膜厚を有する大面積薄膜状三次元微粒子構造体の製造方法を提供すること。【解決手段】微粒子を分散媒に分散させた微粒子分散液102に基板101を浸し、分散媒の蒸発による基板表面における微粒子分散液の濡れ膜の後退を利用して基板上に薄膜状三次元微粒子構造体103を形成する。薄膜状三次元微粒子構造体の形成前に微粒子分散液102の脱塩処理(イオン交換,遠心分離など),水素イオン濃度の調整(PH調整),電解質(塩化ナトリウムなど)の添加を行い、薄膜状三次元微粒子構造体の形成中に恒温槽106で雰囲気温度を一定に制御する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

微粒子を分散媒に分散させた微粒子分散液に基板を浸し、前記分散媒の蒸発による基板表面における微粒子分散液の濡れ膜の後退を利用して基板上に薄膜状三次元微粒子構造体を形成する製造方法であって、前記薄膜状三次元微粒子構造体の形成前に、微粒子分散液に電解質を添加する工程を行い、前記薄膜状三次元微粒子構造体の形成中に、雰囲気温度を一定に制御する工程を行うことを特徴とする薄膜状三次元微粒子構造体の製造方法。

IPC (2件)：

B01J19/00 , G02B1/02

FI (3件)：

B01J19/00 K , G02B1/02 , G02B6/12 Z

Fターム (19件)：

2H047KA03 , 4G047CA02 , 4G047CB05 , 4G047CD02 , 4G072AA25 , 4G072BB09 , 4G072HH14 , 4G072KK07 , 4G072LL11 , 4G072NN21 , 4G075AA24 , 4G075BB02 , 4G075BB04 , 4G075BB08 , 4G075BD16 , 4G075BD26 , 4G075CA57 , 4G075DA02 , 4G075EB01

引用特許：

出願人引用 (11件)

特許第2828386号公報
特許第2783487号公報
特許第2828374号公報

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審査官引用 (4件)

ナノスケール微粒子の2次薄膜集積法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-242237 出願人：新技術事業団
逆オパール構造フォトニクス結晶の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-180892 出願人：財団法人神奈川科学技術アカデミー, 科学技術振興事業団
シリカゾル
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-273262 出願人：触媒化成工業株式会社

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