特許
J-GLOBAL ID：200903075265091933
焦点された光線を発生させる方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
廣江 武典
, 宇野 健一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-517656
公開番号（公開出願番号）：特表2004-537749
出願日： 2002年07月18日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：
延長された焦点深度を有した光線を発生させる装置は高輝度の主リングと2つのサイドローブリングとを含んだ回折模様を発生させるバイナリフェーズマスク(4)と、回折模様の一部のみを通過する環状アパーチャマスク(10)と、環状アパーチャマスク(10)を通過する光線を光線軸(2)に向かって収束させて交差させるレンズ(14)とを含んでいる。収束光線が光線軸と交差するところではコンストラクティブ干渉が発生し、延長された焦点深度を有した光線(36)が発生する。
請求項（抜粋）：
延長深度の焦点を有した光線を発生させる装置であって:
a.高輝度主リングを含んだ回折模様を第1焦点面に発生させる第1セクションと;
b.前記第1焦点面に存在する環状アパーチャを含んでいる第2セクションであって、アパーチャの半径は前記主リングの半径と実質的に等しく、該アパーチャの幅は該主リングの幅と実質的に等しいか、それよりも多少広い第2セクションと;
c.前記環状アパーチャを通過する光線を光線軸に向かって収束させて交差させる第3セクションと;
を前記光線軸に沿って配列させており、前記収束光線が該光線軸と交差するところでコンストラクティブ干渉現象を発生させ、延長された焦点深度を有した光線を発生させるように構成されていることを特徴とする装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
2H052AC00
, 2H052AC15
, 2H052AC34
審査官引用 (6件)
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特開平4-171415
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特開平4-171415
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特開平4-180612
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