特許
J-GLOBAL ID:200903075329502487

ポジティブ型ドライフィルムフォトレジスト及びこれを製造するための組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-545373
公開番号(公開出願番号):特表2008-523442
出願日: 2005年12月07日
公開日(公表日): 2008年07月03日
要約:
本発明のポジティブ型フォトレジスト樹脂フィルムは、支持体フィルムと、その上に積層されたポジティブ型フォトレジスト樹脂層とを含む。フィッシュ-アイなどの欠陥を除去できるように、上記支持体のピーク高さ(Rp)は約300nm以下である。ポジティブ型フォトレジスト樹脂層は、アルカリ可溶性樹脂、ジアジド系感光性化合物、可塑剤、及び選択的に感度増進剤及び選択的に剥離剤を含む。
請求項(抜粋):
選択範囲内の高さプロファイル(Z軸方向)に位置する最高表面ピークの高さと表面平均の高さ(MHt)との高さ差として定義されるピーク高さ(Rp)が約300nm以下である支持体フィルムと;上記支持体フィルム上のアルカリ可溶性樹脂、ジアジド系感光性化合物及び可塑剤からなるフォトレジスト層とを含むことを特徴とするドライフィルムレジスト。
IPC (7件):
G03F 7/004 ,  G03F 7/023 ,  G03F 7/09 ,  G03F 7/075 ,  G03F 7/11 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00
FI (8件):
G03F7/004 512 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/023 511 ,  G03F7/09 501 ,  G03F7/075 521 ,  G03F7/11 501 ,  H01L21/30 502R ,  H05K3/00 F
Fターム (16件):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB11 ,  2H025AB14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025BE01 ,  2H025CA03 ,  2H025CB29 ,  2H025CC05 ,  2H025CC20 ,  2H025DA19 ,  2H025DA20 ,  2H025FA17
引用特許:
審査官引用 (6件)
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