特許
J-GLOBAL ID:200903075416546407
感光性組成物、それに用いる化合物および樹脂、およびそれを用いたパターン形成方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
高松 猛
, 矢澤 清純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-355081
公開番号(公開出願番号):特開2008-162952
出願日: 2006年12月28日
公開日(公表日): 2008年07月17日
要約:
【課題】感光性組成物、特に、二層、あるいは多層レジストに好適な感光性組成物、感光性組成物に好適な樹脂、および該樹脂の製造に好適な化合物、該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)酸の作用により分解して脱離する基を有する特定のシロキサン単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、および(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物、該樹脂、および該樹脂の製造に好適な化合物、および該組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
(A)一般式(I)に示す構造単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、および(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (6件):
C07F 7/18
, G03F 7/075
, G03F 7/039
, G03F 7/26
, H01L 21/027
, C08G 77/14
FI (6件):
C07F7/18 J
, G03F7/075 521
, G03F7/039 601
, G03F7/26 511
, H01L21/30 502R
, C08G77/14
Fターム (53件):
2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BD55
, 2H025BE07
, 2H025BF30
, 2H025BG00
, 2H025DA13
, 2H025FA10
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 2H096AA25
, 2H096BA11
, 2H096EA03
, 2H096EA05
, 2H096EA06
, 2H096EA07
, 2H096EA23
, 2H096FA01
, 2H096GA08
, 2H096HA23
, 2H096KA02
, 2H096KA19
, 4H049VN01
, 4H049VP01
, 4H049VQ06
, 4H049VQ21
, 4H049VQ28
, 4H049VR22
, 4H049VR42
, 4H049VU24
, 4J246AA03
, 4J246AB01
, 4J246AB13
, 4J246BA020
, 4J246BA04X
, 4J246BA040
, 4J246BB02X
, 4J246BB020
, 4J246BB022
, 4J246CA25X
, 4J246CA250
, 4J246CA63X
, 4J246CA630
, 4J246CB08
, 4J246FA131
, 4J246FB081
, 4J246GC26
, 4J246HA15
引用特許:
出願人引用 (6件)
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米国特許第6,359,078号明細書
-
米国特許第5,985,524号明細書
-
米国特許第6,028,154号明細書
-
ポジ型レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-331724
出願人:信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
-
特許第3533951号
-
感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-077042
出願人:ジェイエスアール株式会社
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