特許
J-GLOBAL ID：200903075429757075
磁気記録媒体の製造方法及び製造装置
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
松山 圭佑
, 高矢 諭
, 牧野 剛博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-283567
公開番号（公開出願番号）：特開2005-050468
出願日： 2003年07月31日
公開日（公表日）： 2005年02月24日
要約：
【課題】分割記録要素の加工形状のずれ、磁気的な劣化を抑制し、良好な磁気特性を有する磁気記録媒体を効率良く製造することができる磁気記録媒体の製造方法等を提供する。【解決手段】連続記録層20のドライエッチング手法としてイオンビームエッチングを用いる。又、レジスト層26を連続記録層20のドライエッチングの前に除去する。連続記録層を被覆する第1のマスク層の材料として、ダイヤモンドライクカーボンを用いる。【選択図】図10
請求項（抜粋）：
基板表面上に連続記録層、マスク層、レジスト層をこの順で形成してなる被加工体の前記レジスト層を所定のパターン形状に加工するレジスト層加工工程と、前記レジスト層に基づいて前記マスク層を前記パターン形状に加工するマスク層加工工程と、前記マスク層上の前記レジスト層を除去するレジスト層除去工程と、前記マスク層に基づいてドライエッチングにより前記連続記録層を前記パターン形状に加工し、多数の分割記録要素に分割する連続記録層加工工程と、を含んでなり、前記連続記録層加工工程の前に前記レジスト層除去工程を実行するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
5D112AA05
, 5D112AA20
, 5D112AA24
, 5D112FB27
, 5D112GA20
, 5D112HH08
出願人引用 (2件)
審査官引用 (14件)
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