特許
J-GLOBAL ID:200903075432471379
触媒担持セラミック多孔質体及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
特許業務法人快友国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-159877
公開番号(公開出願番号):特開2004-358355
出願日: 2003年06月04日
公開日(公表日): 2004年12月24日
要約:
【課題】ミクロ細孔に富み触媒が均一分散された触媒担持セラミック多孔質体及びその製造方法を提供すること。【解決手段】本発明によって提供される触媒担持セラミック多孔質体は、ケイ素及び窒素を主体とする非酸化物セラミックの前駆体ポリマーと、VIII族金属を含む有機金属化合物とを有機溶媒に溶解して成る混合溶液を多孔質セラミック支持体(120)に付与し、該多孔質セラミック支持体(120)を非酸化的雰囲気中において0.5〜3°C/分の昇温速度でほぼ200〜400°Cの間で設定される中間温度まで加熱し、その中間温度域にて1〜6時間保持した後に0.3〜3°C/分の昇温速度で600〜800°Cの間で設定される最高温度まで加熱し、その最高温度域にて0.5〜3時間保持し、その後、多孔質非酸化物セラミック層が形成された支持体(120)を冷却することによって得られる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
触媒担持セラミック多孔質体を製造する方法であって、
(a)ケイ素及び窒素を主体とする非酸化物セラミックの前駆体ポリマーと、VIII族金属を含む有機金属化合物とを有機溶媒に溶解して成る混合溶液を用意する工程と、
(b)該混合溶液を多孔質セラミック支持体に付与する工程と、
(c)該多孔質セラミック支持体を非酸化的雰囲気中において0.5〜10°C/分の昇温速度でほぼ200〜400°Cの間で設定される中間温度まで加熱し、その中間温度域にて1〜6時間保持した後に0.3〜10°C/分の昇温速度で600〜950°Cの間で設定される最高温度まで加熱し、その最高温度域にて0.5〜3時間保持することにより、前記支持体の表面部にVIII族金属微粒子が分散したミクロ細孔に富む多孔質非酸化物セラミック層を生成する工程と、
(d)前記多孔質非酸化物セラミック層を有する支持体を冷却する工程と、
を包含する製造方法。
IPC (7件):
B01J27/24
, B01D53/22
, B01D71/02
, B01J37/08
, C04B38/00
, C04B38/06
, C04B41/85
FI (7件):
B01J27/24 M
, B01D53/22
, B01D71/02 500
, B01J37/08
, C04B38/00 304Z
, C04B38/06 E
, C04B41/85 D
Fターム (42件):
4D006GA41
, 4D006HA21
, 4D006MA02
, 4D006MA06
, 4D006MA22
, 4D006MB03
, 4D006MB04
, 4D006MC03X
, 4D006NA39
, 4D006NA46
, 4D006NA50
, 4D006PA01
, 4D006PB63
, 4D006PB66
, 4D006PC80
, 4G019GA04
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA01B
, 4G069BC16B
, 4G069BC68A
, 4G069BC68B
, 4G069BC69A
, 4G069BC71B
, 4G069BD02B
, 4G069BD05B
, 4G069BD06B
, 4G069CC17
, 4G069CC25
, 4G069DA05
, 4G069EA08
, 4G069EA11
, 4G069EA18
, 4G069EA19
, 4G069EB01
, 4G069EB10
, 4G069FA02
, 4G069FA06
, 4G069FB23
, 4G069FB29
, 4G069FB37
, 4G069FB41
引用特許:
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