特許
J-GLOBAL ID：200903075453780070
レジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-282756
公開番号（公開出願番号）：特開2004-117959
出願日： 2002年09月27日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：
【課題】電子線、X線による微細パターン形成に好適なレジスト組成物を提供する。【解決手段】下記式(1)の構造を有する酸発生剤と、酸の作用によりアルカリに対する溶解性を増加させる官能基を有する樹脂とを含有するレジスト組成物であって、該レジスト組成物のパターン形成時における解像度が90nm以下である。【化1】上記式(1)において、Rは、フッ素含有率が50重量%以下である1価の有機基、ニトロ基、シアノ基または水素原子を示し、Z1およびZ2は相互に独立にフッ素原子または炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のパーフルオロアルキル基を示す。【選択図】 無
請求項（抜粋）：
下記式(1)の構造を有する酸発生剤と、酸解離性基を有するアルカリ不溶またはアルカリ難溶性の樹脂であり前記酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂とを含有するレジスト組成物であって、該レジスト組成物のパターン形成時における解像度が90nm以下であることを特徴とするレジスト組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/004 503A
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB41
, 2H025FA17
