特許
J-GLOBAL ID：200903075520502632
レジスト用剥離液組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-257615
公開番号（公開出願番号）：特開2001-083712
出願日： 1999年09月10日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：
【要約】【課題】変質層のような除去困難な残渣を除去できる強力な剥離作用と、銅膜のような腐食しやすい金属膜の変質を防止できる優れた防食作用とを兼ね備え、剥離性能と防食性能のバランスの温度依存性が少なく、リンス後の残留物の発生の少ない、剥離液組成物を提供すること。【解決手段】(a)フッ化水素酸と金属イオンを含まない塩基との塩、(b)水溶性有機溶剤、(c)水、及び(d)下記一般式(1)で表されるベンゾトリアゾール誘導体からなることを特徴とするレジスト用剥離液組成物。【化1】(R1及びR2は、炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基あるいはアルコキシアルキル基を表し、R3及びR4は、それぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)
請求項（抜粋）：
(a)フッ化水素酸と金属イオンを含まない塩基との塩、(b)水溶性有機溶剤、(c)水、及び(d)下記一般式(1)で表されるベンゾトリアゾール誘導体からなることを特徴とするレジスト用剥離液組成物。【化1】(R1及びR2は、炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基あるいはアルコキシアルキル基を表し、R3及びR4は、それぞれ独立して水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。)
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 7/42
, H01L 21/30 572 B
2H096AA25
, 2H096AA26
, 2H096HA13
, 2H096HA23
, 2H096LA03
, 5F046MA02
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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