特許
J-GLOBAL ID：200903075527366807

マイクロエレクトロニックワークピースを処理するための微細環境リアクタ

発明者：
ゲイリー・エル・カーティス

ゲイリー・エル・カーティス について

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レイモン・エフ・トンプソン

レイモン・エフ・トンプソン について

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スティーブン・エル・ピース

スティーブン・エル・ピース について


出願人/特許権者：
セミトゥール・インコーポレイテッド

セミトゥール・インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-535469
公開番号（公開出願番号）：特表2003-517364
出願日： 1999年03月15日
公開日（公表日）： 2003年05月27日
要約：
【要約】微細環境中でワークピース(55)を処理するための装置(10)を示す。装置は回転モータ(40)およびワークピースハウジング(20)を備える。ワークピースハウジング(20)は、回転モータ(40)によって回転するように接続されている。ワークピースハウジング(20)は、さらに実質的に閉じた処理チャンバ(50)を内部に形成し、そこで1またはそれ以上の処理流体を、ハウジング(20)の回転中に生じた中心に向かう加速によって、ワークピース(55)の少なくとも一方の面全体に分配する。またこの装置および装置を用いた処理に対するいろいろな改良を示す。
請求項（抜粋）：
微細環境中でワークピースを処理する装置であって、 回転モータ; 回転モータによって回転するよう接続されたワークピースハウジングであって、ハウジングの回転中に生じた中心に向かう加速によって、1またはそれ以上の処理流体をワークピースの少なくとも一面全体に分配する実質的に閉じた処理チャンバをその中に包含するワークピースハウジング;を含有する装置。
IPC (4件)：
B08B 3/04 ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 651
FI (4件)：
B08B 3/04 A ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 651 B
Fターム (28件)：
3B201AA03 ,  3B201AB02 ,  3B201AB33 ,  3B201BB24 ,  3B201BB95 ,  3B201BB98 ,  3B201BC01 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CC13 ,  3B201CD22 ,  3B201CD41 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042AA10 ,  4F042CB02 ,  4F042CB11 ,  4F042CC04 ,  4F042CC07 ,  4F042CC15 ,  4F042DA01 ,  4F042DA08 ,  4F042EB01 ,  4F042EB06 ,  4F042EB07 ,  4F042EB09 ,  4F042EB17 ,  4F042EB21
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 回転処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-137224   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 処理装置及び処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-219464   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 半導体基板の表面処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-214422   出願人：株式会社東芝, 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社

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