特許
J-GLOBAL ID:200903075608253241

リソグラフィ装置の位置決めシステムおよび方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  岩本 行夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-366657
公開番号(公開出願番号):特開2004-282017
出願日: 2003年09月19日
公開日(公表日): 2004年10月07日
要約:
【課題】位置決めの正確さおよび/または強健性が改善されたリソグラフィ投影装置のアライメント・システムを提供する。【解決手段】リソグラフィ装置の位置決めシステムは、位置決め放射線源1、第1検出器チャネルおよび第2検出器チャネルを有する検出システム、および検出システムと連絡する位置決定ユニットを有する。位置決定ユニットは、第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、組み合わせた情報に基づいて、第2オブジェクト上の基準位置に対する第1オブジェクト上の位置決めマークの位置を決定する。【選択図】図3
請求項(抜粋):
リソグラフィ装置の位置決めシステムにおいて、 アライメント放射線源と、 第1検出器チャネルおよび第2検出器チャネルを含む検出システムと、 前記検出システムと連絡する位置決定ユニットとを有し、 前記位置決定ユニットが、前記第1および第2検出器チャネルからの情報を組み合わせて処理し、加工物上の位置決めマークの位置を決定するように構成され、前記組合せは、前記加工物の製造プロセスを考慮に入れたものである位置決めシステム。
IPC (4件):
H01L21/027 ,  G01B11/00 ,  G01B21/00 ,  G03F9/00
FI (5件):
H01L21/30 525W ,  G01B11/00 G ,  G01B21/00 D ,  G03F9/00 H ,  H01L21/30 525R
Fターム (50件):
2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA14 ,  2F065AA20 ,  2F065BB02 ,  2F065BB28 ,  2F065CC20 ,  2F065FF44 ,  2F065FF48 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065GG23 ,  2F065HH03 ,  2F065HH04 ,  2F065HH08 ,  2F065HH12 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ18 ,  2F065LL12 ,  2F065LL36 ,  2F065LL42 ,  2F065LL46 ,  2F065MM03 ,  2F065NN06 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2F065SS13 ,  2F065UU04 ,  2F065UU08 ,  2F069AA03 ,  2F069AA17 ,  2F069BB15 ,  2F069CC06 ,  2F069DD30 ,  2F069GG04 ,  2F069GG07 ,  2F069HH09 ,  2F069JJ14 ,  2F069KK03 ,  2F069NN08 ,  2F069QQ10 ,  5F046BA03 ,  5F046EA07 ,  5F046EB01 ,  5F046FB01 ,  5F046FC04
引用特許:
審査官引用 (8件)
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