描画方法および描画装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：渡辺望稔 , 三和晴子 , 福島弘薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-040942
公開番号（公開出願番号）：特開2008-203635
出願日： 2007年02月21日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
要約：

【課題】基板に描画を行なうための描画データを作成する原画像の画像処理と、走査による基板の描画とを並行して行なう描画において、先に基板に描画した画像(下層の画像)と、これから基板に描画する画像との位置合わせを行なうアライメントを行なう際にも、描画データの作成が描画に間に合わずに走査を停止するオーバーランを確実に防止できる描画方法および装置を提供する。【解決手段】画像処理に要する時間の予測を、原画像の回転量およびデータ量を用いて行なうことにより、前記課題を解決する。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

描画データに応じて被処理基板に描画を行なう描画系と被処理基板とを、所定の走査方向に相対的に移動しつつ、前記描画系によって前記被処理基板に描画を行なうに際し、原画像データを取得した後、この原画像データに画像の回転を含む画像処理を施して前記描画データの作成を開始し、その後、所定の時間を経過した後に、前記描画系と被処理基板との相対的な移動を開始して、前記画像処理と前記被処理基板への描画とを並行して行なう共に、前記画像の回転量を用いて、前記画像処理に要する時間を予想し、その予測結果に応じて、常に前記描画データの作成が描画に先行するように、前記描画データ作成の開始から相対的な移動の開始までの時間、および、前記相対的な移動速度の少なくとも一方を調整することを特徴とする描画方法。

IPC (1件)：

G03F 7/20

FI (1件)：

G03F7/20 501

Fターム (7件)：

2H097AA03 , 2H097AB05 , 2H097BB01 , 2H097BB10 , 2H097GB04 , 2H097LA09 , 2H097LA12

引用特許：

出願人引用 (4件)

描画ヘッドユニット、描画装置及び描画方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-023089 出願人：富士写真フイルム株式会社
描画点データ取得方法および装置並びに描画方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-089958 出願人：富士写真フイルム株式会社
特許第2993411号公報

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