特許

J-GLOBAL ID：200903075630466917

静電吸着ステージへのパーティクルの付着を検知する方法、静電吸着ステージのクリーニングの要否の判断方法及び基板処理装置

発明者： 梨本 清 ,  堀田 和貴
出願人/特許権者： アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 保立 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-039270
公開番号（公開出願番号）：特開2002-246453
出願日： 2001年02月15日
公開日（公表日）： 2002年08月30日
要約：

【要約】【課題】 静電吸着ステージに基板を吸着しながら処理する基板処理装置において、静電吸着ステージのクリーニングの要否を判断する実用的な構成を提供する。【解決手段】 処理チャンバー1内の静電吸着ステージ4に基板9を静電吸着しながら処理するに際し、静電吸着ステージ4と基板9との隙間に検知用ガス導入系71により検知用ガスを導入する。検知用ガスのガス導入路における圧力を圧力計72で計測することにより静電吸着ステージ4と基板9との隙間のコンダクタンスの変化を知る。これにより静電吸着ステージ4へのパーティクル付着を検知し、静電吸着ステージ4の表面のクリーニングの要否を判断する。

請求項（抜粋）：

処理チャンバー内で基板に所定の処理を施す基板処理装置において、処理チャンバー内に設けられた静電吸着ステージへのパーティクルの付着を検知する方法であって、静電吸着ステージに基板を静電吸着した際の静電吸着ステージと基板との隙間のコンダクタンスの変化からパーティクル付着を検知することを特徴とする方法。

IPC (6件)：

H01L 21/68 ,  C23C 14/50 ,  C23C 14/52 ,  C23C 16/458 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/205

FI (6件)：

H01L 21/68 R ,  C23C 14/50 A ,  C23C 14/52 ,  C23C 16/458 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/205

Fターム (29件)：

4K029BD11 ,  4K029CA05 ,  4K029EA00 ,  4K029FA09 ,  4K029JA01 ,  4K030GA02 ,  4K030KA39 ,  4K030LA15 ,  5F031HA16 ,  5F031HA19 ,  5F031JA31 ,  5F031JA51 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA32 ,  5F031PA23 ,  5F031PA26 ,  5F045AA19 ,  5F045BB14 ,  5F045EB02 ,  5F045EB05 ,  5F045EE04 ,  5F045EH01 ,  5F045EH19 ,  5F045EM05 ,  5F045EM07 ,  5F045EM09 ,  5F045GB06 ,  5F045GB15

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 試料保持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-041958   出願人：沖電気工業株式会社
• 静電吸着ホルダの吸着力検出方法と装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-131385   出願人：アネルバ株式会社