特許
J-GLOBAL ID：200903075665492198

画像形成装置

発明者：
渡邉 泰成

渡邉 泰成 について

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宇山 雅夫

宇山 雅夫 について

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足立 元紀

足立 元紀 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-022017
公開番号（公開出願番号）：特開2001-215798
出願日： 2000年01月31日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：
【要約】【課題】転写工程後の像担持体1上の転写残現像剤を現像同時クリーニングで除去・回収し再用するクリーナレス方式の画像形成装置について、帯電手段2への転写残現像剤の付着を防止するとともに、現像手段4での転写残現像剤の回収も効率的になされるようにすることで、帯電不良や不良画像がなく、しかもクリーナレスシステムのメリットを生かした画像形成装置を提供する。【解決手段】転写部dの下流に位置する転写残トナー均一化手段8によって転写残トナーを均一化し、さらに下流に位置するトナー帯電量制御手段7で正規極性に帯電処理し、帯電手段2で像担持体1面を帯電すると同時に、適正帯電量にすること。
請求項（抜粋）：
像担持体と、像担持体面を帯電する帯電手段と、帯電処理された像担持体に静電潜像を形成する情報書き込み手段と、静電潜像に現像剤を供給し静電潜像を可視化する現像手段と、可視化した現像剤像を転写材に転写する転写手段と、前記帯電手段より上流に位置していて、像担持体面上の現像剤を帯電する現像剤帯電量制御手段と、前記現像剤帯電量制御手段より上流かつ前記転写手段より下流に位置していて、前記現像剤像を転写材に転写した後の像担持体面上に残留する残留現像剤像を均一化する残留現像剤像均一化手段と、を有し、現像剤像転写後の像担持体上に残留する残留現像剤像を前記残留現像剤像均一化手段で均一化し、その均一化された像担持体上の残留現像剤を前記現像剤帯電量制御手段で正規極性に帯電処理し、前記帯電手段で前記像担持体面を帯電すると同時に、適正帯電量にすることを特徴とした画像形成装置。
IPC (2件)：
G03G 15/08 507 ,  G03G 15/02 101
FI (2件)：
G03G 15/02 101 ,  G03G 15/08 507 B
Fターム (8件)：
2H003AA12 ,  2H003BB13 ,  2H003CC05 ,  2H003CC06 ,  2H003DD03 ,  2H077AA37 ,  2H077AC16 ,  2H077AE08
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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