特許
J-GLOBAL ID：200903075767708012

照明光学装置、露光装置、および露光方法

発明者：
西永 壽

西永 壽 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-044243
公開番号（公開出願番号）：特開2005-236088
出願日： 2004年02月20日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：
【課題】 露光装置に搭載された場合に、様々な特性を有するマスクパターンを忠実に転写するために必要な適切な照明条件、たとえば二次光源の形状や光強度や偏光状態などに関して多様性に富んだ照明条件を実現することのできる照明光学装置。【解決手段】 光源(1)からの光束で被照射面を照明する照明光学装置。照明瞳面上の第1領域に位置する光強度分布と第2領域に位置する光強度分布とを有する照明瞳分布を形成するための照明瞳形成手段(20〜26,6)と、第1領域の形状と第2領域の形状とを互いに独立に変更する制御と、第1領域を通過する光束の偏光状態と第2領域を通過する光束の偏光状態とを互いに独立に変更する制御とを行うための照明瞳制御手段(17,23,24)とを備えている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
光源からの光束で被照射面を照明する照明光学装置において、 照明瞳面上の第1領域に位置する光強度分布と第2領域に位置する光強度分布とを有する照明瞳分布を形成するための照明瞳形成手段と、 前記第1領域の形状と前記第2領域の形状とを互いに独立に変更する制御と、前記第1領域を通過する光束の偏光状態と前記第2領域を通過する光束の偏光状態とを互いに独立に変更する制御とを行うための照明瞳制御手段とを備えていることを特徴とする照明光学装置。
IPC (3件)：
H01L21/027 ,  G02B19/00 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 515D ,  G02B19/00 ,  G03F7/20 502
Fターム (17件)：
2H052BA02 ,  2H052BA03 ,  2H052BA08 ,  2H052BA09 ,  2H052BA12 ,  2H097CA13 ,  2H097GB01 ,  5F046CA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB05 ,  5F046CB07 ,  5F046CB10 ,  5F046CB11 ,  5F046CB12 ,  5F046CB13 ,  5F046CB15 ,  5F046CB23
引用特許：
審査官引用 (5件)
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