特許
J-GLOBAL ID：200903075773229827

ナフトキノンジアジド感光体素材の製造方法

発明者：
下崎 隆司

下崎 隆司 について

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田淵 訓久

田淵 訓久 について

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佐野 暢彦

佐野 暢彦 について


出願人/特許権者：
株式会社コニカケミカル

株式会社コニカケミカル について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-344772
公開番号（公開出願番号）：特開2001-166466
出願日： 1999年12月03日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：
【要約】【課題】従来技術に比べて高収率で且つ金属類及びハロゲン含量を大幅に低減する製造方法を提供する。【解決手段】フェノール性水酸基を有する化合物とナフトキノンジアジドスルホニルハライドを、有機溶媒中、二塩基アミン類を使用し反応することにより高収率で且つ金属含量を大幅に低減したナフトキノンジアジド感光体素材
請求項（抜粋）：
フェノール性水酸基を有する化合物と1,2-ナフトキノンジアジド-4-又は-5-スルホニルハライドを、有機溶媒中、有機塩基として二塩基アミン類を使用し縮合反応することを特徴とするナフトキノンジアジド感光体素材の製造方法。
IPC (2件)：
G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501
FI (2件)：
G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501
Fターム (6件)：
2H025AA00 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025BJ10
引用特許：
審査官引用 (3件)

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