特許

J-GLOBAL ID：200903075797144504

電子回路の品質及び製造状態モニタシステム、並びに実装回路基板生産システム、並びに実装回路基板

発明者： 奥田 浩人 ,  本田 敏文 ,  山村 久恵 ,  高木 裕治 ,  土井 秀明 ,  吉永 重志
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-284438
公開番号（公開出願番号）：特開2000-114692
出願日： 1998年10月06日
公開日（公表日）： 2000年04月21日
要約：

【要約】【課題】 多岐にわたる製造条件と製造状態との相関関係の把握を容易にすることができる、電子回路の品質及び製造状態モニタシステムを提供すること。【解決手段】 検出情報データベースから、特徴量の値、設計情報、製造条件の少なくとも1つを指定して検索した画像群から、統計的に特徴的な画像を選択して、表示する。

請求項（抜粋）：

電子回路基板の所定部位の検出画像データ、並びこの検出画像データに基づいて算出した前記所定部位の特徴量、並びに設計情報、並びに製造条件を格納したデータベースと、前記特徴量、設計情報、製造条件の少なくとも何れか1つを検索条件として、前記データベースから抽出されたデータの集合に対して、統計処理を実行する統計処理手段と、この統計処理手段による統計処理に基づいて、統計処理結果データ、または、前記データの集合に含まれる特定のデータを出力するデータ表示手段とを、備えることを特徴とする電子回路の品質及び製造状態モニタシステム。

IPC (4件)：

H05K 3/00 ,  G06F 17/30 ,  H05K 3/34 512 ,  H05K 13/08

FI (4件)：

H05K 3/00 V ,  H05K 3/34 512 A ,  H05K 13/08 U ,  G06F 15/40 370 Z

Fターム (15件)：

5B075ND06 ,  5B075NK02 ,  5B075NK12 ,  5B075PP02 ,  5B075PP03 ,  5B075PP12 ,  5B075PQ02 ,  5B075PQ22 ,  5B075PQ23 ,  5B075PQ66 ,  5B075PQ74 ,  5B075PR06 ,  5B075QM08 ,  5E319CD29 ,  5E319CD53

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-076079
  
• はんだ付け検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-300467   出願人：株式会社日立製作所, シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
• 検査測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-280570   出願人：株式会社ニコン