ペリクル

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：鈴木郁男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-294484
公開番号（公開出願番号）：特開2001-117211
出願日： 1999年10月15日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：

【要約】【課題】高エネルギー光、特に200nm以下の波長の高エネルギー光を照射した場合にも、膜の劣化が小さいペリクルを提供することにある。【解決手段】スピン濃度が1g当たり1×1013個以下の材料である事を特徴とするペリクルに用いられるペリクル材料。

請求項（抜粋）：

スピン濃度が1g当たり1×1013個以下の材料である事を特徴とするペリクルに用いられるペリクル材料。

IPC (3件)：

G03F 1/14 , C08F 14/18 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/14 J , C08F 14/18 , H01L 21/30 502 P

Fターム (6件)：

2H095BC33 , 4J100AC26P , 4J100AR32Q , 4J100BB07Q , 4J100CA04 , 4J100JA46

引用特許：

審査官引用 (5件)

全件表示

前のページに戻る