特許
J-GLOBAL ID：200903092211545396

ペリクルの製造方法

発明者：
本多 英司

本多 英司 について

, 
山口 朋樹

山口 朋樹 について


出願人/特許権者：
旭化成工業株式会社

旭化成工業株式会社 について

, 
旭化成電子株式会社

旭化成電子株式会社 について


代理人 (1件)： 清水 猛 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-206407
公開番号（公開出願番号）：特開平10-039493
出願日： 1996年07月18日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：
【要約】【課題】 フッ素系材料からなる反射防止層及び透明薄膜層を有するペリクル膜の基板からの剥離工程において、ペリクル膜を基板から容易に剥離することができ、さらに繰り返し基板が使用できるペリクルの製造方法を提供する。【解決手段】 表面にパーフルオロアルキル基を有するシリコン化合物を形成した基板にペリクル膜を形成し、剥離することにより、ペリクルを製造する。
請求項（抜粋）：
フッ素系材料からなる反射防止層及び透明薄膜層を有するペリクル膜の基板からの剥離工程において、パーフルオロアルキル基を有するシリコン化合物を含有する層を形成した基板の表面にペリクル膜を形成した後、ペリクル膜を剥離することを特徴とするペリクルの製造方法。
IPC (2件)：
G03F 1/14 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F 1/14 J ,  H01L 21/30 502 P
引用特許：
出願人引用 (18件)
  • ペリクルとその製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-198465   出願人：旭化成電子株式会社
  • 特開平4-151664
  • 特開平4-237055
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