特許
J-GLOBAL ID：200903075948504125
基板の面曲がりを使用する倍率補正
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山川 政樹
, 山川 茂樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-560778
公開番号（公開出願番号）：特表2006-510223
出願日： 2003年12月12日
公開日（公表日）： 2006年03月23日
要約：
インプリント・リソグラフィを使用して形成されるパターン内の寸法変化を制御する方法は、液体材料を堆積させることによってウエハ上に記録されたパターンを作製する領域を決めるステップ(100)と、ウエハを曲げることによって領域内に輪郭が形成された表面を作製するステップ(102)と、テンプレート上のモールドを液体材料と接触させることによってウエハ上の領域をテンプレートと接触させるステップ(104)と、テンプレートを曲げることによってモールド上の原パターン内に寸法変化を生じさせるステップ(106)と、モールドによって作られたパターンを記録するために液体材料を凝固させるステップ(108)と、凝固した液体からモールドを分離し、ウエハをニュートラル(すなわち、曲がっていない)状態へ戻すステップ(110)とを含む。
請求項（抜粋）：
モールド内に存在する原パターンとウエハの表面内に形成される記録されたパターンの間の相対寸法を制御する方法であって、
前記記録されたパターンを作製する領域を前記層上で決めること、
変化したパターンを形成するように、前記モールドに引張応力をかけることによって前記原パターン内に寸法変化を生じさせること、
前記層内に前記変化したパターンを記録すること
を含む、方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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