特許
J-GLOBAL ID：200903075995256849

多重露光描画装置および多重露光描画方法

発明者：
奥山 隆志

奥山 隆志 について


出願人/特許権者：
ペンタックス株式会社

ペンタックス株式会社 について


代理人 (1件)： 松浦 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-393982
公開番号（公開出願番号）：特開2003-122030
出願日： 2001年12月26日
公開日（公表日）： 2003年04月25日
要約：
【要約】【課題】 マトリクス状に配置された多数の変調素子を持つ露光ユニットを用いて、簡単な構成で個々の露光ユニットによって描画された回路パターンを高精度に繋ぎ合わせる。【解決手段】 マトリクス状に配列された多数の変調素子を持つ複数個の露光ユニットを用いて、多重露光により描画面上に所定パターンを描画する。各露光ユニットに対応したFIFOメモリ56201、56202...を設け、このFIFOメモリ56201、56202...からの露光データの読出しタイミングを調整することにより、各露光ユニットの取付け位置の違いによる回路パターンの位置ずれを相殺する。
請求項（抜粋）：
マトリクス状に配置された多数の変調素子を持つ露光ユニットを用いて所定のパターンを描画面上に多重露光により描画する多重露光描画装置であって、複数の前記露光ユニットを第1方向に沿って配列する配列手段と、前記第1方向とは異なる第2方向に沿って前記描画面を前記露光ユニットに対して相対移動させる移動手段と、個々の前記露光ユニットの露光タイミングを調整する露光タイミング調整手段とを備え、前記移動手段によって前記露光ユニットに対して前記描画面を前記第2方向に沿って相対移動させた時に、前記露光タイミング調整手段によって、前記描画面上において個々の前記露光ユニットによる前記第1方向に沿う描画開始位置を一致させることを特徴とする多重露光描画装置。
IPC (4件)：
G03F 9/00 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00
FI (5件)：
G03F 9/00 Z ,  G03F 7/20 501 ,  H05K 3/00 G ,  H05K 3/00 H ,  H01L 21/30 502 C
Fターム (8件)：
2H097AA11 ,  2H097BB01 ,  2H097KA02 ,  2H097LA09 ,  5F046AA11 ,  5F046BA07 ,  5F046CB02 ,  5F046CC15
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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