特許
J-GLOBAL ID：200903076037024149

表示素子の製造方法及び表示素子用基板の製造方法

発明者：
木村 睦

木村 睦 について

, 
木口 浩史

木口 浩史 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-330875
公開番号（公開出願番号）：特開2003-241676
出願日： 1997年09月18日
公開日（公表日）： 2003年08月29日
要約：
【要約】【課題】表示素子及びその製造方法において、低コスト、高スループット及び光学材料の自由度が高いこと等の特徴を維持しつつ、パターニングの精度を向上させることを目的とする。【解決手段】そして、この目的を達成するために、O2、CF4、及びArなどの原料を用いてプラズマを発生させ、表示基板にプラズマ処理を施すことにより、所望の撥液性・親液性の分布を形成することができる。その後、インクジェット法などを用いて液状の光学材料を塗布する。
請求項（抜粋）：
所定位置に液体材料を配置する表示素子の製造方法であって、前記液体材料を塗布する前に、プラズマ照射を用いて前記所定位置の前記液体材料に対する親液性を前記所定位置の周囲に比べて向上させること、を特徴とする表示素子の製造方法。
IPC (10件)：
G09F 9/00 338 ,  G09F 9/00 342 ,  B41J 2/01 ,  G02F 1/1335 505 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22
FI (10件)：
G09F 9/00 338 ,  G09F 9/00 342 Z ,  G02F 1/1335 505 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z ,  B41J 3/04 101 Z
Fターム (24件)：
2C056FB01 ,  2H091FA04Y ,  2H091FA35Y ,  2H091FC12 ,  2H091FC27 ,  2H091GA02 ,  2H091GA13 ,  2H091LA12 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007EA00 ,  3K007FA01 ,  5C094AA43 ,  5C094AA44 ,  5C094BA03 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094GB10 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435KK09 ,  5G435KK10
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (14件)
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