特許
J-GLOBAL ID:200903076039346917

ハニカム構造体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 高橋 祥泰 ,  岩倉 民芳 ,  高橋 祥起
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-217381
公開番号(公開出願番号):特開2008-037722
出願日: 2006年08月09日
公開日(公表日): 2008年02月21日
要約:
【課題】造孔材を用いずに、高気孔率で、かつ気孔径の小さいハニカム構造体を低コストで簡単に製造できるハニカム構造体の製造方法を提供すること。【解決手段】多孔質のセル壁2をハニカム状に配して多数のセル3を設けたコーディエライトからなるハニカム構造体1を製造する方法である。まず、Si源とAl源とMg源とを含有するコーディエライト化原料と溶媒とを混合することにより、粘土質のセラミック材料を作製する(材料準備工程)。次いで、セラミック材料を押出成形することにより、セル壁をハニカム状に配して多数のセルを設けたハニカム成形体を作製する(押出成形工程)。次いで、ハニカム成形体を乾燥し(乾燥工程)、その後ハニカム成形体を焼成する(焼成工程)。コーディエライト化原料は、Si源として少なくとも多孔質シリカを含有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
多孔質のセル壁をハニカム状に配して多数のセルを設けたコーディエライトからなるハニカム構造体を製造する方法において、 Si源とAl源とMg源とを含有するコーディエライト化原料と溶媒とを混合することにより、粘土質のセラミック材料を作製する材料準備工程と、 上記セラミック材料を押出成形することにより、セル壁をハニカム状に配して多数のセルを設けたハニカム成形体を作製する押出成形工程と、 上記ハニカム成形体を乾燥する乾燥工程と、 上記ハニカム成形体を焼成する焼成工程とを有し、 上記コーディエライト化原料は、上記Si源として少なくとも多孔質シリカを含有することを特徴とするハニカム構造体の製造方法。
IPC (4件):
C04B 35/195 ,  C04B 38/08 ,  B01D 39/20 ,  B01D 46/00
FI (4件):
C04B35/16 A ,  C04B38/08 D ,  B01D39/20 D ,  B01D46/00 302
Fターム (31件):
4D019AA01 ,  4D019BA05 ,  4D019BB06 ,  4D019BD01 ,  4D019CA01 ,  4D019CB04 ,  4D058JA32 ,  4D058JB06 ,  4D058SA08 ,  4G019LA05 ,  4G019LB02 ,  4G019LD02 ,  4G030AA07 ,  4G030AA36 ,  4G030AA37 ,  4G030AA67 ,  4G030BA32 ,  4G030BA34 ,  4G030CA10 ,  4G030GA01 ,  4G030GA04 ,  4G030GA09 ,  4G030GA11 ,  4G030GA17 ,  4G030GA21 ,  4G030GA23 ,  4G030GA27 ,  4G030HA01 ,  4G030HA02 ,  4G030HA05 ,  4G030HA08
引用特許:
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (1件)
  • 特開昭62-113713

前のページに戻る