特許
J-GLOBAL ID:200903076062061873
濃度測定用センサの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
吉田 稔 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-301039
公開番号(公開出願番号):特開2003-107031
出願日: 2001年09月28日
公開日(公表日): 2003年04月09日
要約:
【要約】【課題】 基板上に形成された電極を利用して、試料液中の特定成分の濃度に相関するレベルの信号を出力する濃度測定用センサにおいて、基板を劣化させることなく電極の感度を高める。【解決手段】 濃度測定用センサを製造する方法において、材料基板4上に導体部41を形成した後に、この導体部41に波長が200nm以下である真空紫外線を照射することによりバイオセンサの電極を形成する。好ましくは、光源63を用いて真空紫外線の照射を行うとともに、光源63と導体部41との最短距離を2mm以下とする。光源63からは導体部41に対して8〜10mW/cm2の放射発散度で真空紫外線を照射するのが好ましい。真空紫外線の照射時間は、たとえば10〜240秒とする。
請求項(抜粋):
基板上に形成された電極を利用して、試料液中の特定成分の濃度に相関するレベルの信号を出力する濃度測定用センサを製造する方法であって、上記電極は、材料基板上に導体部を形成した後に、この導体部に波長が200nm以下である真空紫外線を照射することにより形成されることを特徴とする、濃度測定用センサの製造方法。
IPC (3件):
G01N 27/327
, G01N 27/30
, G01N 27/416
FI (6件):
G01N 27/30 Z
, G01N 27/30 353 Z
, G01N 27/46 336 A
, G01N 27/46 336 H
, G01N 27/46 338
, G01N 27/30 353 R
引用特許:
審査官引用 (5件)
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-248850
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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特開昭63-144247
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特開平4-318037
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