特許
J-GLOBAL ID：200903076081985423
銅箔の製造方法及び製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-162426
公開番号（公開出願番号）：特開2001-342589
出願日： 2000年05月31日
公開日（公表日）： 2001年12月14日
要約：
【要約】【課題】従来のカソード体の物理的なバフ研磨法に代わり、作業性が良好な電解処理を用いた銅箔の製造方法とその製造装置を提供する。【解決手段】電解液に浸漬したカソード体とアノード体の間に通電して電解反応により前記カソード体表面に銅箔を析出させ、カソード体表面から銅箔を剥離して銅箔を製造する方法において、銅箔を剥離した後に露出したカソード体表面を連続的又は間欠的に電解処理する。
請求項（抜粋）：
電解液に浸漬したカソード体とアノード体の間に通電して電解反応により前記カソード体表面に銅箔を析出させ、カソード体表面から銅箔を剥離して銅箔を製造する方法において、銅箔を剥離した後に露出したカソード体表面を連続的又は間欠的に電解処理することを特徴とする銅箔の製造方法。
引用特許：
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