特許
J-GLOBAL ID:200903076155735785

排ガス浄化装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-332540
公開番号(公開出願番号):特開2005-098194
出願日: 2003年09月24日
公開日(公表日): 2005年04月14日
要約:
【課題】 ハニカム構造体におけるPMの付着位置の偏りを抑制する。【解決手段】 複数の外周電極30a〜30dを、ハニカム構造体20の外周であって互いにハニカム構造体20の周方向に異なる位置に配置する。複数の外周電極30a〜30dに互いに異なる条件で通電することにより、ハニカム構造体20におけるPMの付着位置を制御でき、付着位置の偏りを抑制または補償してPMを広い領域に薄く(低密度に)分散できるため、局部的なPM堆積量の飽和の回避により処理性能を向上できる。また、同様の理由からセル20aの詰まりを抑制できるので、処理性能を長く維持することができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
エンジンからの排ガス流路中に配置されたハニカム構造体と、該ハニカム構造体の上流側からハニカム構造体の軸線上に延びる中心電極と、前記ハニカム構造体の外周であって互いに前記ハニカム構造体の周方向に異なる位置に配置された複数の外周電極と、を備えたことを特徴とする排ガス浄化装置。
IPC (5件):
F01N3/02 ,  B03C3/155 ,  B03C3/40 ,  B03C3/47 ,  B03C3/66
FI (6件):
F01N3/02 341J ,  F01N3/02 341S ,  B03C3/40 A ,  B03C3/47 ,  B03C3/66 ,  B03C3/14 A
Fターム (12件):
3G090AA02 ,  3G090BA04 ,  3G090CB11 ,  4D054AA03 ,  4D054BA01 ,  4D054BB02 ,  4D054BC02 ,  4D054BC06 ,  4D054BC13 ,  4D054BC31 ,  4D054BC33 ,  4D054EA22
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (1件)

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