特許
J-GLOBAL ID：200903076185469230
フォトマスクブランク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小田島 平吉 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-521263
公開番号（公開出願番号）：特表平9-508981
出願日： 1995年02月10日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：
【要約】リソグラフィー波長において少なくとも0.001の透過率を有し、本質的に多成分の組み合わせから成り、成分の1つがリソグラフィー波長において他の成分より高い吸光度を有する光学的不均質減衰フィルムを含む透過性埋め込み位相シフター-フォトマスクブランクを開示する。フィルムの表面からの1つの深さは他の深さより、より高い吸光性の成分の含有率が高く、屈折率及び/又は吸光係数の変化の分布はフィルムの厚さを通じて勾配を有する。変化の該分布及びフィルムの厚さは、選ばれたリソグラフィー波長において約180°(又はその奇数倍)の位相シフトを与えるように選ばれる。
請求項（抜粋）：
選ばれたリソグラフィー波長において少なくとも0.001の透過率を有し、本質的に少なくとも2成分の組み合わせから成り、該成分の少なくとも1つが該リソグラフィー波長において少なくとも1つの他の成分より高い吸光度を有する、上面及び下面を有する光学的に不均質な減衰フィルムを含み;ここでフィルムの上面からの1つの深さは上面からの他の深さより、該より高い吸光性の成分の含有率が高く、屈折率の変化の分布、吸光係数の変化の分布又は該分布の両方はフィルムの厚さを通じて漸進的であり;ならびにここで該変化の分布及びフィルムの厚さは、選ばれたリソグラフィー波長において約180°又はその奇数倍の位相シフトを与えるように選ばれる、選ばれたリソグラフィー波長のための透過性埋め込み位相シフター-フォトマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 528
審査官引用 (5件)
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フオトマスク
公報種別：公開公報
出願番号：特願平3-152084
出願人：日本電気株式会社
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特開平2-242252
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特開平2-242252
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