特許
J-GLOBAL ID：200903076196585453

有機EL素子の製造方法

発明者：
仲俣 祐子

仲俣 祐子 について


出願人/特許権者：
富士電機ホールディングス株式会社

富士電機ホールディングス株式会社 について


代理人 (2件)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-369504
公開番号（公開出願番号）：特開2005-135706
出願日： 2003年10月29日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：
【課題】 透明導電性酸化物を用いて上部電極を形成する際の酸素によるダメージから有機EL層を効果的に保護する手段を備えた有機EL素子の製造方法を提供すること。【解決手段】 基板上に陽極を形成する工程と、陽極の上に少なくとも有機発光層と電子注入層とを含む有機EL層を形成する工程と、有機EL層の上にバリア層を形成する工程であって、バリア層として酸素欠損型化学量論組成の金属酸化物膜を成膜する工程と、バリア層の上に、透明導電性酸化物からなる透明陰極を形成する工程と有する方法によって有機EL素子を製造する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
基板上に、陽極、少なくとも有機発光層と電子注入層とを含む有機EL層、バリア層、および透明陰極を順次有する有機EL素子の製造方法であって、 前記基板上に陽極を形成する工程と、 前記陽極の上に少なくとも有機発光層と電子注入層とを含む有機EL層を形成する工程と、 前記有機EL層の上にバリア層を形成する工程であって、バリア層として酸素欠損型非化学量論組成の金属酸化物膜を成膜する工程と、 前記バリア層の上に、透明導電性酸化物からなる透明陰極を形成する工程と を有することを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (4件)：
H05B33/10 ,  H05B33/14 ,  H05B33/22 ,  H05B33/28
FI (4件)：
H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/22 A ,  H05B33/28
Fターム (8件)：
3K007AB03 ,  3K007AB11 ,  3K007AB12 ,  3K007AB18 ,  3K007CB01 ,  3K007CB04 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01
引用特許：
出願人引用 (5件)
  • 有機エレクトロルミネッセンス素子
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-319567   出願人：出光興産株式会社
  • 有機発光素子及びその製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-212340   出願人：イーストマンコダックカンパニー
  • OLED装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-245372   出願人：イーストマンコダックカンパニー
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審査官引用 (7件)
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