特許
J-GLOBAL ID：200903068857194941

有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法と表示装置

発明者：
千葉 安浩

千葉 安浩 について

, 
山田 二郎

山田 二郎 について

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平野 貴之

平野 貴之 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 晴敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-265763
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085163
出願日： 1999年09月20日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：
【要約】【課題】 上面光取り出し型の有機エレクトロルミネッセンス素子では、透明導電膜を用いて、薄い金属膜からなる陰極の保護と、配線抵抗の低抵抗化を図る。この際、スパッタリングにより上質の透明導電膜を成膜する必要がある。しかし、スパッタリングは、堆積する粒子のエネルギーが高いため、下地に対してダメージを与える。【解決手段】 有機エレクトロルミネッセンス素子の有機層10は、陽極Aから供給される正孔と陰極Kから供給される電子との再結合によって発光する発光層を含んでいる。これを製造する場合、基板1の上に陽極Aを形成する陽極形成工程と、陽極Aの上に有機層10を形成する有機層形成工程と、有機層10の上に発光を透過可能な厚みで陰極Kを形成する陰極形成工程と、陰極Kを被覆するように透明導電膜12をスパッタリングで成膜する透明導電膜形成工程とを行なう。ここで、透明導電膜形成工程は、成膜の初期にはスパッタリングに要する電力を低く設定し、成膜の進行に応じて該電力を高く設定する。
請求項（抜粋）：
陽極と、陰極と、両者の間に保持された有機層とからなり、前記有機層は該陽極から供給される正孔と該陰極から供給される電子との再結合によって発光する発光層を含んでいる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、基板の上に陽極を形成する陽極形成工程と、該陽極の上に有機層を形成する有機層形成工程と、該有機層の上に該発光が透過可能な厚みで陰極を形成する陰極形成工程と、該陰極を被覆するように透明導電膜をスパッタリングで成膜する透明導電膜形成工程とからなり、前記透明導電膜形成工程は、成膜の初期にはスパッタリングに要する電力を低く設定し、成膜の進行に応じて該電力を高く設定することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/28
FI (3件)：
H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/28
Fターム (10件)：
3K007AB05 ,  3K007BA06 ,  3K007BB07 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01
引用特許：
審査官引用 (6件)
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