特許

J-GLOBAL ID：200903076214310750

狭帯域化エキシマレーザ装置

発明者： 多田 昭史
出願人/特許権者： 株式会社ウシオ総合技術研究所 ,  日本電気株式会社
代理人 (1件)： 韮澤 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-326952
公開番号（公開出願番号）：特開2001-144355
出願日： 1999年11月17日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】 ビーム径拡大光学系とリトロー配置の反射型回折格子とからなる狭帯域化光学系を用いるエキシマレーザ装置において、反射型回折格子の波面歪みに基づく狭帯域化の限界を打破して半導体露光用レーザ光源等に適したものとすること。【解決手段】 リトロー配置の反射型回折格子3とこの反射型回折格子3の入射側に配置されたビーム径拡大光学系5とスリット4とからなる狭帯域化光学系を備えたエキシマレーザ装置において、反射型回折格子3のレーザ光照射領域内のリトロー配置における回折波面歪み(He-Neレーザ光における測定値)が、測定波長をλとするとき、λ/10以下であるものを用いる。

請求項（抜粋）：

リトロー配置の反射型回折格子とこの反射型回折格子の入射側に配置されたビーム径拡大光学系とスリットとからなる狭帯域化光学系を備えたエキシマレーザ装置において、前記反射型回折格子のレーザ光照射領域内のリトロー配置における回折波面歪み(He-Neレーザ光における測定値)が、測定波長をλとするとき、λ/10以下であることを特徴とする狭帯域化エキシマレーザ装置。

IPC (5件)：

H01S 3/1055 ,  G02B 5/04 ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

H01S 3/1055 ,  G02B 5/04 Z ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 515 B

Fターム (22件)：

2H042AA03 ,  2H042CA00 ,  2H049AA06 ,  2H049AA51 ,  2H049AA55 ,  2H049AA63 ,  2H049AA64 ,  2H097AA03 ,  2H097BA10 ,  2H097BB02 ,  2H097CA13 ,  2H097LA10 ,  5F046CA04 ,  5F046CB01 ,  5F046CB10 ,  5F046CB22 ,  5F072AA06 ,  5F072JJ13 ,  5F072KK07 ,  5F072KK18 ,  5F072MM08 ,  5F072YY09

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 反射型波長選択素子の曲げ機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-174478   出願人：株式会社小松製作所
• エキシマレーザ、その光学部品の固定手段及びその固定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-046235   出願人：株式会社小松製作所