新規なスルホニウム塩化合物、その製造方法およびその用途

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：倉内義朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-361804
公開番号（公開出願番号）：特開2003-246786
出願日： 2002年12月13日
公開日（公表日）： 2003年09月02日
要約：

【要約】【課題】光照射により発生するアニオン由来の酸性物質により、周辺環境が汚染されたり悪影響を被ることがないような、2-ナフトイルメチルテトラメチレンスルホニウム塩、並びにその製造方法を提供する。【解決手段】光酸発生剤として有用な、式(1)で表される2-ナフトイルメチルテトラメチレンスルホニウム塩化合物、並びに、2-ナフトイルメチルテトラメチレンスルホニウムブロマイドを式(2)で表されるスルホンイミドアンモニウムと塩交換する上記化合物の製造方法。【化1】【化2】(式中、nは1〜5の整数を表す)

請求項（抜粋）：

式(1)【化1】(式中、nは1〜5の整数を表す)で表される2-ナフトイルメチルテトラメチレンスルホニウム塩化合物。

IPC (3件)：

C07D333/46 , C07C311/48 , G03F 7/004 503

FI (3件)：

C07D333/46 , C07C311/48 , G03F 7/004 503 A

Fターム (8件)：

2H025AB03 , 2H025AB16 , 2H025AB20 , 2H025BE07 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB76 , 4H006AB78

引用特許：

出願人引用 (6件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-098796 出願人：東京応化工業株式会社
光モジュール製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-057189 出願人：株式会社日立製作所
光硬化性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-236042 出願人：株式会社東芝

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