特許
J-GLOBAL ID：200903076253364655
内周駆動型ゴムクロ-ラの製法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 悦郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-211400
公開番号（公開出願番号）：特開2000-043073
出願日： 1998年07月27日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
要約：
【要約】【課題】本発明は内周駆動型ゴムクロ-ラの製法に関するものである。【解決手段】ゴム突起形成用キャビテイを備えた下モ-ルドと、ゴムラグ形成用キャビテイを備えた上モ-ルドを準備し、下モ-ルドのキャビテイ内にゴム突起用未加硫ゴムを充填し、ゴムクロ-ラの基体をなす上下のゴム用未加硫ゴム、スチ-ルコ-ドを重ね合わせ、上モ-ルドにて加圧し、これを加熱することによって各未加硫ゴムを加硫してなるゴムクロ-ラの製法であって、下モ-ルドのキャビテイ内に充填された未加硫ゴムブロックを、各部材を重ね合せる前に冷却してゴムの流動性を低下させておくことを特徴とする。1..ゴム突起用の未加硫ゴム、1a..ゴム突起用の未加硫ゴムブロック、2..下ゴム、3..スチ-ルコ-ド、4..バイアスコ-ド、5..上ゴム、6..ゴム突起、7..ロッド、10..下モ-ルド、11..ゴム突起を形成するキャビテイ、15..上モ-ルド。
請求項（抜粋）：
スプロケットからの力を伝達するゴム突起形成用キャビテイを備えた下モ-ルドと、ゴムラグ形成用キャビテイを備えた上モ-ルドを準備し、下モ-ルドのキャビテイ内にゴム突起用未加硫ゴムを充填し、これにゴムクロ-ラの基体を構成する下ゴム用未加硫ゴム、スチ-ルコ-ド、ゴムクロ-ラの基体を構成する上ゴム用未加硫ゴムを重ね合わせ、上モ-ルドにて加圧し、これを加熱することによって各未加硫ゴムを加硫してなるゴムクロ-ラの製法であって、下モ-ルドのキャビテイ内に充填された未加硫ゴムブロックを、各部材を重ね合せる前に冷却してゴムの流動性を低下させておくことを特徴とする内周駆動型ゴムクロ-ラの製法。
IPC (7件)：
B29C 43/52
, B29C 35/02
, B62D 55/24
, B62D 55/32
, B29K 21:00
, B29K105:24
, B29L 15:00
B29C 43/52
, B29C 35/02
, B62D 55/24
, B62D 55/32
4F203AA45
, 4F203AD03
, 4F203AD05
, 4F203AD35
, 4F203AG05
, 4F203AG16
, 4F203AH66
, 4F203DA03
, 4F203DB01
, 4F203DB11
, 4F203DC01
, 4F203DC27
, 4F203DD07
, 4F203DE09
, 4F204AA45
, 4F204AD03
, 4F204AD05
, 4F204AD35
, 4F204AG05
, 4F204AG16
, 4F204AH66
, 4F204FA01
, 4F204FB01
, 4F204FB11
, 4F204FG01
, 4F204FH09
, 4F204FN17
