特許
J-GLOBAL ID:200903076255786832

酸化チタンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保山 隆 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-098705
公開番号(公開出願番号):特開2001-278627
出願日: 2000年03月31日
公開日(公表日): 2001年10月10日
要約:
【要約】【課題】 光触媒活性を示す酸化チタンの簡易な製造方法を提供する。【解決手段】 オキシ蓚酸チタンアンモニウム((NH4)2・TiO(C2O4)2)、硫酸チタンアンモニウム((NH4)2SO4・3Ti2(SO4)3)等のアンモニウム塩とその水和物又はイソプロピルトリス(N-アミノエチル-アミノエチル)チタネート等のチタンキレート化合物を分子状酸素存在下で焼成する。
請求項(抜粋):
窒素とチタンとを含有する化合物を分子状酸素存在下で焼成することを特徴とする酸化チタンの製造方法。
IPC (3件):
C01G 23/07 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ZAB
FI (3件):
C01G 23/07 ,  B01J 21/06 A ,  B01J 35/02 ZAB J
Fターム (20件):
4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD03 ,  4G069AA02 ,  4G069AA08 ,  4G069AA09 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA21C ,  4G069BA48A ,  4G069BC50C ,  4G069BE17C ,  4G069CA10 ,  4G069CA17 ,  4G069EA02Y ,  4G069EC22Y ,  4G069FA01 ,  4G069FB40 ,  4G069FC02
引用特許:
審査官引用 (14件)
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