薄膜厚測定装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大島陽一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-299056
公開番号（公開出願番号）：特開平7-198342
出願日： 1994年11月09日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：

【要約】【目的】検査対象の基板全体に渡って高速かつ複数測定点の測定を可能とする薄膜厚測定装置を提供する。【構成】本発明の薄膜厚測定装置は、発光ユニットと、受光ユニットと、光線変向ユニットとを有する。発光ユニットはコリメートされた入射光線を入射軸に沿って供給。受光ユニットはレンズと、レンズの焦点に位置するピンホールを有する絞りとを有し、入射軸に平行な出射軸に沿ってコリメートされた出射光線を受光する。光線変向ユニットは、少なくとも入射軸に平行な走査軸に沿って移動可能である。光線変向ユニットは入射光線をサンプルへ向けて変向し、サンプルからの出射光線を受光ユニットへ向けて変向する。

請求項（抜粋）：

コリメートされた入射光線を入射軸に沿って供給する発光ユニットと、コリメートされた出射光線を前記入射軸に平行な出射軸に沿って受光する受光ユニットと、前記入射光線をサンプルへ向けて偏向し、前記出射光線を前記サンプルから前記受光ユニットへ向けて偏向する、少なくとも前記入射軸に平行な第1走査軸に沿って移動可能な光線偏向ユニットとを有するサンプル上の薄膜の厚さを測定するための薄膜厚測定装置であって、前記受光ユニットが、レンズと、ピンホールを有する絞りとを有し、前記ピンホールが、前記レンズの焦点に位置することを特徴とする薄膜厚測定装置。

IPC (4件)：

G01B 11/06 , G01J 4/00 , G01N 21/21 , G01N 21/41

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平2-126106
真空処理装置及び真空処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-251207 出願人：富士通株式会社
特開平1-105556

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