特許

J-GLOBAL ID：200903076425120834

試料の保持方法,試料の保持装置、および荷電粒子線装置

発明者： 佐藤 隆 ,  鴫原 和仁 ,  大塚 雅之 ,  早川 功一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-326325
公開番号（公開出願番号）：特開2000-149845
出願日： 1998年11月17日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：

【要約】【課題】ウェハ周辺の電界乱れを緩和する、実施容易な試料の保持方法,試料の保持装置、および荷電粒子線装置を提供する。【解決手段】試料を保持する保持装置を貫通する昇降ピンに試料を載せ、昇降ピンを下降させて保持装置に設けられた支持台に試料を載せ、試料が保持装置に保持されたときに試料の表面とほぼ同じ高さ、かつ試料の端面との隙間が0.5 ミリメートル以下となる導体板と試料とに同じ電圧を印加する。

請求項（抜粋）：

試料に荷電粒子線を照射して加工,検査等を行う荷電粒子線装置の試料の保持方法において、前記試料を保持する保持装置を貫通する昇降ピンに試料を載せ、該昇降ピンを下降させて前記保持装置に設けられた支持台に試料を載せ、前記試料が前記保持装置に保持されたときに前記試料の表面とほぼ同じ高さ、かつ前記試料の端面との隙間が0.5 ミリメートル以下となる導体板と前記試料とに同じ電圧を印加することを特徴とする試料の保持方法。

Fターム (3件)：

5C001AA01 ,  5C001CC04 ,  5C001CC08

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 電子ビーム検査方法とそのシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-124951   出願人：日本ケー・エル・エー株式会社
• ウエハ保持装置および保持方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-048286   出願人：株式会社日立製作所
• 基板保持方法および該方法に用いる基板保持機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-302694   出願人：株式会社アドバンスト・ディスプレイ
• 特開昭62-015745