特許

J-GLOBAL ID：200903076461217550

特定ガスの充填濃度調節器

発明者： 高野 和潔
出願人/特許権者： 山陽電子工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-231753
公開番号（公開出願番号）：特開2003-044146
出願日： 2001年07月31日
公開日（公表日）： 2003年02月14日
要約：

【要約】【課題】 被ガス充填容器130内の混合ガスをガス分離部105で分離して回収する場合に、分離しきれなかった特定ガスが多少あっても、そのガスを大気中に漏出することなく回収し、一旦回収した特定ガスや希釈ガスを混合して再び被ガス充填容器に充填する過程において、その混合したガスの濃度や圧力を所望の値に調節して充填できるようにする。【解決手段】 各ガスを供給するガス供給部101と、これらのガスを分離するガス分離部105と、被ガス充填容器130とを配管で接続し、該ガス分離部で分離したガスを適宜選択して被ガス充填容器に配管で接続し、分離したガスを被ガス充填容器に戻し入れられるようにし、これらの機器の間にガスを循環させて被ガス充填容器内の圧力及びガス濃度を測定しながら、これらの各ガスの戻し入れ量を制御して、被ガス充填容器内の圧力及びガス濃度を所望の値に調節できるようにする。

請求項（抜粋）：

特定ガスと希釈ガスとを供給するガス供給部と、この特定ガスと希釈ガスとを分離するガス分離部と、被ガス充填容器とガス供給部及びガス分離部とを接続する配管とで構成することを特徴とする特定ガスの充填濃度調節器

IPC (2件)：

G05D 21/00 ,  F17C 5/06

FI (2件)：

G05D 21/00 A ,  F17C 5/06

Fターム (14件)：

3E072DA05 ,  3E072DB03 ,  5H309AA02 ,  5H309BB20 ,  5H309CC04 ,  5H309CC06 ,  5H309DD04 ,  5H309DD12 ,  5H309EE04 ,  5H309EE05 ,  5H309FF03 ,  5H309FF20 ,  5H309GG03 ,  5H309JJ02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• SF6ガス回収装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-330813   出願人：山陽電子工業株式会社
• SF6ガス回収装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-010143   出願人：山陽電子工業株式会社