特許
J-GLOBAL ID：200903076482331051
紫外線用光学石英ガラスとその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
穂上 照忠 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-276298
公開番号（公開出願番号）：特開2002-087833
出願日： 2000年09月12日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：
【要約】【課題】KrFやArFなどのエキシマレーザ光に対し、初期透過率がすぐれ照射による透過率の低下が小さい紫外線用石英ガラスおよびその製造方法の提供。【解決手段】OH基の濃度が質量比で10〜30ppm、最高最低の差が10ppm以下、濃度勾配が0.10ppm/mm以下、水素が1018mol/cm3以上で、かつ波長248.25nmの光に対する屈折率が1.50860以下である紫外線用光学石英ガラス。および多孔体を減圧下1100〜1500°Cにて脱OH基処理してから透明化焼結した合成石英ガラス素材に、1500〜1700°Cにて40%以上の圧縮加工を施し、加工終了後1〜10°C/hrの冷却速度で600°C以下の温度まで冷却する歪み取り処理をおこない、ついで1MPa以下の水素雰囲気中にて400〜1000°Cの温度範囲で10〜200時間の水素ドープ処理を施す上記合成石英ガラスの製造方法。
請求項（抜粋）：
OH基の濃度が質量比で10〜30ppm、最高濃度と最低濃度との差が10ppm以下、濃度勾配が0.10ppm/mm以下、水素濃度が1018mol/cm3以上で、かつ波長248.25nmの光に対する屈折率が1.50860以下であることを特徴とする紫外線用光学石英ガラス。
IPC (4件)：
C03B 20/00
, C03C 3/06
, G02B 1/02
, H01L 21/027
C03B 20/00 E
, C03B 20/00 F
, C03C 3/06
, G02B 1/02
, H01L 21/30 515 D
4G014AH21
, 4G014AH23
, 4G062AA04
, 4G062BB02
, 4G062CC07
, 4G062MM31
, 4G062MM40
, 4G062NN16
, 4G062NN20
, 5F046CB10
, 5F046CB12
, 5F046CB17
, 5F046CB19
