特許

J-GLOBAL ID：200903076608462912

感光性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法

発明者： 中野 嘉一郎 ,  前田 勝美 ,  岩佐 繁之 ,  長谷川 悦雄
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-038207
公開番号（公開出願番号）：特開平10-307400
出願日： 1998年02月20日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：

【要約】【課題】 波長248nm以下の遠紫外線、特にArFエキシマレーザに対して高い透明性を有し、かつ耐ドライエッチング耐性に優れ、基板密着性、アルカリ現像液に対し良好な溶解性を示し、ならびに高感度、高解像度を有するフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 少なくとも一般式(1)に示されるビニルモノマーを含む高分子前駆体を重合して得られる重合体と露光により酸を発生する光酸発生剤を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物(但しR1 は水素原子あるいはメチル基、R2 は炭素数7から22の有橋環式炭化水素基、m、nは0または1,R3は水素、メチル基あるいはアセチル基を表す)。【化1】

請求項（抜粋）：

少なくとも一般式(1)で示されるモノマーと他の重合性化合物とを共重合させて成ることを特徴とする重合体と、露光により酸を発生する光酸発生剤を含有する感光性樹脂組成物であって、組成物中の含有率は、樹脂が75から99.8重量部であり、光酸発生剤が0.2から25重量部であることを特徴とする感光性樹脂組成物。【化1】(上式において、R1 は水素原子あるいはメチル基、R2 は炭素数7から22の有橋環式炭化水素基、m、nは0または1、R3 は水素、メチル基あるいはアセチル基を表す。)

IPC (8件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/06 ,  C08L 33/14 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/039 501 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08K 5/00 ,  C08L 33/06 ,  C08L 33/14 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ビニルモノマー、重合体、フォトレジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-203150   出願人：日本電気株式会社
• ビニル基を含有する単量体及びその重合体及びそれを用いた感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-280695   出願人：日本電気株式会社