特許
J-GLOBAL ID：200903076627208199
基板加熱装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-145015
公開番号（公開出願番号）：特開平10-056008
出願日： 1997年06月03日
公開日（公表日）： 1998年02月24日
要約：
【要約】【課題】 基板の所定の領域を照射する複数の放射エネルギ源を備えた急速加熱システムを提供する。【解決手段】 放射エネルギ源がリフレクタと関連することにより、隣接する放射エネルギ源の放射領域の一部分が重なる。リフレクタは、それらの光放出端または出口にフレア正反射面を備える。フレア正反射面は、基板に向かって放射エネルギを反射する。
請求項（抜粋）：
基板の急速熱処理中に基板を加熱する加熱装置であって、少なくとも2つの放射エネルギ源と、前記放射エネルギ源の少なくとも1つから前記基板に放射エネルギを向ける少なくとも1つのリフレクタと、前記少なくとも1つの放射エネルギ源から前記基板に放射エネルギを反射し、前記基板の限定された領域を放射する、前記リフレクタ内の第1端にあるアルミニウム正反射性リフレクタスリーブとを備え、隣接する放射エネルギ源の放射領域の一部が重なり、前記一部での強度が、前記隣接する放射エネルギ源の強度に依存する前記基板にわたる放射強度を提供することを特徴とする加熱装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/31 B
, H01L 21/31 E
, H01L 21/205
