リソグラフィ装置及び装置製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 田中正 , 森徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-155593
公開番号（公開出願番号）：特開2006-352112
出願日： 2006年06月05日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：

【課題】ウェハ表面トポグラフィの補償を改善すること。【解決手段】本発明は、基板を保持するように構築された基板テーブルと、露光スリット領域を通して放射ビームを基板の目標部分上に投影するように構成された投影システムと、放射ビームにその断面においてパターンを付与してパターン形成された放射ビームを形成するように構成されたパターン形成デバイスであって、パターン形成された放射ビームが、基板の目標部分において焦点深度(DOF)にわたって合焦する、パターン形成デバイスと、目標部分の少なくとも一部分の表面トポグラフィを測定するように構成された測定システムと、を含み、露光スリット領域の寸法を調節して、表面トポグラフィ変動がその上で焦点深度に等しい又はそれより小さい、調節された露光スリット領域を形成するように、投影システムが構成される、リソグラフィ装置を提供する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置であって、基板を保持するように構築された基板テーブルと、露光スリット領域を通して放射ビームを前記基板の目標部分上に投影するように構成された投影システムと、前記放射ビームにその断面においてパターンを付与してパターン形成された放射ビームを形成することが可能なパターン形成デバイスであって、前記パターン形成された放射ビームが、前記基板の前記目標部分において、焦点深度(DOF)にわたって合焦する、パターン形成デバイスと、前記目標部分の少なくとも一部分の表面トポグラフィを測定するように構成された測定システムとを含み、前記露光スリット領域の寸法を調節し、表面トポグラフィ変動がその上で前記焦点深度に等しい又はそれより小さい調節された露光スリット領域を形成するように、前記投影システムが構成される、リソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (5件)：

H01L21/30 514C , G03F7/20 521 , H01L21/30 514E , H01L21/30 515D , H01L21/30 526Z

Fターム (5件)：

5F046AA11 , 5F046AA17 , 5F046BA03 , 5F046CB05 , 5F046DA14

引用特許：

審査官引用 (5件)

露光装置および露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-193190 出願人：株式会社液晶先端技術開発センター
回路パタ-ン転写方法、イメ-ジフィ-ルド決定方法及び縮小投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-373737 出願人：三菱電機株式会社
走査露光装置及び方法、管理装置及び方法、ならびにデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-088643 出願人：株式会社ニコン

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