露光装置および露光方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 峰隆司 , 福原淑弘 , 村松貞男 , 橋本良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-193190
公開番号（公開出願番号）：特開2005-032777
出願日： 2003年07月07日
公開日（公表日）： 2005年02月03日
要約：

【課題】露光中に行う露光用基板の傾きおよび高さの実時間調整をなくす。【解決手段】露光装置は特定方向において感光面に凹凸を有する露光用基板Pを載置する基板ステージ11と、露光用基板Pの感光面Sを選択的に露光する露光パターンを照射する照射部13と、基板ステージ11に載置された露光用基板Pの傾きおよび高さを照射部13の焦点深度内の焦点面に対して調整する調整機構14とを備える。この露光装置はさらに基板ステージ11に載置された露光用基板Pの感光面Sの起伏分布を検出し、複数の感光エリアSBが焦点深度深度の範囲に高低差を収めるエリア幅で特定方向に並ぶように露光用基板Pの感光面Sを区分し、調整機構14によって各感光エリアSBを焦点深度内に設定して照射部13から各感光エリアSBに露光パターンの対応部分を照射させる制御部15を備える。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

特定方向において凹凸を有する露光用基板に露光パターンを投影光学系により照射して露光する露光装置であって、前記投影光学系による照射範囲をこの投影光学系の許容露光深度の範囲内で選択し、前記露光用基板面上で前記特定方向に移動する照射範囲移動手段と、前記照射範囲を前記特定方向に直交する方向に移動させて露光する露光手段とを備えることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 514C , G03F7/20 501 , H01L21/30 516B

Fターム (12件)：

2H097BA01 , 2H097GB00 , 2H097LA12 , 5F046BA05 , 5F046CC01 , 5F046CC03 , 5F046CC05 , 5F046DA05 , 5F046DA06 , 5F046DA14 , 5F046DB05 , 5F046DC10

引用特許：

審査官引用 (10件)

露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-316451 出願人：株式会社ニコン
薄膜トランジスタの製造方法及び電気光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-201904 出願人：セイコーエプソン株式会社
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-220867 出願人：株式会社堀場製作所

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