特許
J-GLOBAL ID:200903076654490319
上塗りされたフォトレジストとともに使用されるコーティング組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
千田 稔 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-281740
公開番号(公開出願番号):特開2003-233195
出願日: 2002年09月26日
公開日(公表日): 2003年08月22日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】集積回路製造のための上塗りのフォトレジスト層と共に使用されるのに有用な反射防止コーティング組成物の提供。【解決手段】第1の態様では、有機コーティング組成物が提供され、特にはスピンオン反射防止コーティング組成物であって、ポリエステル樹脂成分を有するものが提供される。さらなる態様においては、多ヒドロキシ化合物の重合により得られる樹脂成分を含むコーティング組成物が提供される。
請求項(抜粋):
ポリエステル樹脂を含む反射防止組成物層、および該反射防止組成物層の上のフォトレジスト層を含む、被覆された基体。
IPC (4件):
G03F 7/11 503
, G03F 7/004 501
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
FI (4件):
G03F 7/11 503
, G03F 7/004 501
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
Fターム (11件):
2H025AA02
, 2H025AA13
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025DA34
引用特許: