特許
J-GLOBAL ID：200903076796618940

露光装置および露光方法

発明者：
東木 達彦

東木 達彦 について

, 
浅沼 慶太

浅沼 慶太 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-066439
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260250
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】【課題】光学式縮小投影露光装置において、ウエハステージ位置に依存するショット内の系統誤差を補正し、露光パターンの重ね合わせ精度を向上させる。【解決手段】レチクルステージ10a上に搭載されたレチクル6に描画されている回路パターンをウエハステージ5a上に搭載された半導体ウエハ4上に投影してショットを形成する露光装置において、ウエハ上に複数形成されるショット毎の回転誤差θを求め、回転誤差θをウエハ面内座標(x,y)においてn次の関数θs(x,y)で近似し、レチクルステージおよびウエハステージの少なくとも一方のステージ面内回転位置を関数θs(x,y)にしたがって位置決めするように制御する。
請求項（抜粋）：
回路パターンが描画されるとともに位置識別用の複数のアライメントが形成されたマークレチクルと、前記レチクルを搭載するレチクルステージと、前記レチクルステージを平行方向に駆動するレチクルXYステージ駆動装置と、 位置識別用の複数のアライメントが形成された半導体ウエハを搭載するウエハステージと、前記ウエハステージを平行方向に駆動するウエハXYステージ駆動装置と、前記レチクルステージおよびウエハステージの少なくとも一方のステージ面内回転位置を調整するためのショット回転調整装置と、前記レチクルステージの位置を計測するレチクルステージ位置計測装置と、前記ウエハステージの位置を計測するウエハステージ位置計測装置と、前記レチクルの回路パターンをウエハ上に投影してショットを形成する投影光学装置と、前記レチクル上およびウエハ上の複数のアライメントマークの位置を検出して前記レチクルおよびウエハを所望の位置に合わせるアライメント装置と、前記アライメント装置から得られるアライメント出力信号を処理した信号と前記レチクルステージ位置計測装置およびウエハステージ位置計測装置からそれぞれ得られた出力信号を演算処理する演算装置と、前記ウエハ上に複数形成されるショット毎の回転誤差θを求め、前記回転誤差θをウエハ面内座標(x,y)においてn次の関数θs(x,y)で近似し、前記関数θs(x,y)にしたがって前記ショット回転調整装置を制御して前記レチクルステージおよびウエハステージの少なくとも一方のステージ面内回転位置を調整する補正手段とを具備することを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (8件)：
H01L 21/30 516 B ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 502 M ,  H01L 21/30 522 A ,  H01L 21/30 525 W ,  H01L 21/30 525 X ,  H01L 21/30 525 L
引用特許：
出願人引用 (9件)
  • 位置合わせ方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-140580   出願人：株式会社ニコン
  • 特開平3-096219
  • 位置合わせ方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-086067   出願人：株式会社ニコン
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審査官引用 (12件)
  • 位置合わせ方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-140580   出願人：株式会社ニコン
  • 特開平3-096219
  • 位置合わせ方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-086067   出願人：株式会社ニコン
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