プラズマ処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：千葉剛宏 , 宮寺利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-028284
公開番号（公開出願番号）：特開2005-222779
出願日： 2004年02月04日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：

【課題】線状電極と筒状電極を有する例えば同軸円筒型のリアクタを用いたパルスコロナ放電によるプラズマ処理を効率よく行えるようにして、プラズマ処理の適用範囲を広げる。【解決手段】プラズマ処理装置10は、直流入力電圧Vinの供給によって高電圧パルスVL(又は高電圧パルスVLを含む高電圧パルス列Pc)を発生するパルス電源12と、該パルス電源12に接続され、該パルス電源12にて発生された高電圧パルスVL(又は高電圧パルスVLを含む高電圧パルス列Pc)によって均一なストリーマ放電領域14を発生させて、パルスコロナ放電によるNOx処理を促進させるリアクタ16とを有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

高電圧パルスを発生するパルス電源と、前記パルス電源に接続され、該パルス電源にて発生された高電圧パルスによって放電を発生するリアクタとを有し、前記リアクタは、パルス電源に接続された線状電極と、一定の電位に固定された筒状電極とを有し、該筒状電極の中空部に前記線状電極が挿入されて構成され、前記パルス電源にて生成される前記高電圧パルスは、立ち上がり時における電圧上昇率(dV/dt)が1011(V/s)以上であることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H05H1/24 , B01J19/08 , H01T19/00 , H05H1/46

FI (5件)：

H05H1/24 , B01J19/08 E , H01T19/00 , H05H1/46 R , B01D53/34 129C

Fターム (26件)：

4C080AA07 , 4C080BB02 , 4C080CC01 , 4C080HH02 , 4C080KK02 , 4C080LL01 , 4C080QQ11 , 4D002AA12 , 4D002BA07 , 4D002GA01 , 4D002GB20 , 4D002HA10 , 4G075AA37 , 4G075BA05 , 4G075BC06 , 4G075CA15 , 4G075CA47 , 4G075DA02 , 4G075EB41 , 4G075EC21 , 4G075EE02 , 4G075EE07 , 4K030BA36 , 4K030BA42 , 4K030FA01 , 4K030KA30

引用特許：

出願人引用 (2件)

特許第2649340号公報
窒素酸化物分解装置のプラズマ反応容器
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-259884 出願人：三井造船株式会社

審査官引用 (6件)

放電ガス処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-158515 出願人：日新電機株式会社
放電ガス処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-308100 出願人：日新電機株式会社
排ガス処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-155929 出願人：三菱重工業株式会社

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