特許
J-GLOBAL ID：200903076884787663

化学増幅型フォトレジスト組成物の酸発生剤用の塩、その製造方法及び化学増幅型フォトレジスト組成物

発明者：
武元 一樹

武元 一樹 について


出願人/特許権者：
住友化学株式会社

住友化学株式会社 について


代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-190652
公開番号（公開出願番号）：特開2009-046479
出願日： 2008年07月24日
公開日（公表日）： 2009年03月05日
要約：
【課題】良好なパターン形状を有するパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】式(I)で示されることを特徴とする塩。[式(I)中、Q1及びQ2は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、Tはメチレン基又はカルボニル基を表し、U1、U2及びU3は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ヒドロキシメチル基、シアノ基を示すか、又はU1とU2とがひとつになってオキソ基を示してもよい。ただし、U1、U2及びU3は、同時に水素原子であることはない。A+は、有機対イオンを表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(I)で示されることを特徴とする塩。
IPC (6件)：
C07C 309/12 ,  C07C 381/12 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/10
FI (7件)：
C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/10
Fターム (36件)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB80 ,  4H006AC61 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03R ,  4J100BA11S ,  4J100BA15P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC08S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC26P ,  4J100BC27P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53S ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (4件)
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