特許
J-GLOBAL ID:200903076896460406

表面処理シリカ系酸化物の製造方法、および該表面処理シリカ系酸化物スラリーの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-162322
公開番号(公開出願番号):特開2006-036627
出願日: 2005年06月02日
公開日(公表日): 2006年02月09日
要約:
【課題】表面処理シリカ系酸化物の製造方法において、工程が簡略化でき、高度に表面処理することが可能な表面処理シリカ系酸化物の製造方法を提供する。【解決手段】2つの原料供給管が合流し、該合流部にて1つの排出管と連結してなる管型反応器を用い、前記原料供給管から、鉱酸および/または硫酸塩の酸性水溶液と、珪酸ソーダ水溶液とを各々供給し、鉱酸および/または硫酸塩の酸性水溶液と珪酸ソーダ水溶液とを衝突混合させてシリカ系ゾルを製造した後、得られたシリカ系ゾルにシリコーンエマルジョンを添加することにより、シリカ系ゾルを表面処理する表面処理工程、及び前記表面処理工程で得られた表面処理物をゲル化させるゲル化工程を含むことを特徴とする表面処理シリカ系酸化物の製造方法である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
2つの原料供給管が合流し、該合流部にて1つの排出管と連結してなる管型反応器を用い、前記原料供給管から、鉱酸および/または硫酸塩の酸性水溶液と、珪酸ソーダ水溶液とを各々供給し、鉱酸および/または硫酸塩の酸性水溶液と珪酸ソーダ水溶液とを衝突混合させてシリカ系ゾルを製造した後、得られたシリカ系ゾルにシリコーンエマルジョンを添加することにより、シリカ系ゾルを表面処理する表面処理工程、及び前記表面処理工程で得られた表面処理物をゲル化させるゲル化工程とを含むことを特徴とする表面処理シリカ系酸化物の製造方法。
IPC (3件):
C01B 33/146 ,  C09C 1/28 ,  C09C 3/12
FI (3件):
C01B33/146 ,  C09C1/28 ,  C09C3/12
Fターム (17件):
4G072AA28 ,  4G072AA41 ,  4G072CC01 ,  4G072CC04 ,  4G072HH18 ,  4G072HH21 ,  4G072HH28 ,  4G072JJ15 ,  4G072QQ07 ,  4G072SS06 ,  4G072SS07 ,  4G072UU08 ,  4G072UU09 ,  4J037AA18 ,  4J037CC28 ,  4J037EE28 ,  4J037EE29
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (6件)
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