特許
J-GLOBAL ID：200903020915526191
表面処理したシリカゲルの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩澤 寿夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-183153
公開番号（公開出願番号）：特開平9-030810
出願日： 1995年07月20日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：
【要約】【課題】 シリカゲルの本来有するBET比表面積や細孔容積をほぼ維持し、所望の粒子径を有し、所望量の処理剤で均一な表面処理を施した表面処理シリカゲルを製造する方法の提供。【解決手段】 過熱蒸気を用いたジェットミルにシリカゲルと表面処理剤とを供給して、シリカゲルの粉砕と表面処理とを並行して行なうことにより表面処理したシリカゲルを製造する方法であって、前記表面処理剤が表面処理成分を水性溶媒に溶解または分散した溶液であることを特徴とする表面処理シリカゲルの製造方法。
請求項（抜粋）：
過熱蒸気を用いたジェットミルにシリカゲルと表面処理剤とを供給して、シリカゲルの粉砕と表面処理とを並行して行なうことにより表面処理したシリカゲルを製造する方法であって、前記表面処理剤が表面処理成分を水性溶媒に溶解または分散した溶液であることを特徴とする表面処理シリカゲルの製造方法。
引用特許：
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