表面処理したシリカゲルの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：塩澤寿夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-183153
公開番号（公開出願番号）：特開平9-030810
出願日： 1995年07月20日
公開日（公表日）： 1997年02月04日
要約：

【要約】【課題】シリカゲルの本来有するBET比表面積や細孔容積をほぼ維持し、所望の粒子径を有し、所望量の処理剤で均一な表面処理を施した表面処理シリカゲルを製造する方法の提供。【解決手段】過熱蒸気を用いたジェットミルにシリカゲルと表面処理剤とを供給して、シリカゲルの粉砕と表面処理とを並行して行なうことにより表面処理したシリカゲルを製造する方法であって、前記表面処理剤が表面処理成分を水性溶媒に溶解または分散した溶液であることを特徴とする表面処理シリカゲルの製造方法。

請求項（抜粋）：

過熱蒸気を用いたジェットミルにシリカゲルと表面処理剤とを供給して、シリカゲルの粉砕と表面処理とを並行して行なうことにより表面処理したシリカゲルを製造する方法であって、前記表面処理剤が表面処理成分を水性溶媒に溶解または分散した溶液であることを特徴とする表面処理シリカゲルの製造方法。

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平4-037603
微細沈殿ケイ酸及びその製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-334661 出願人：日本シリカ工業株式会社
高比表面積を有する微細沈殿ケイ酸及びその製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-213630 出願人：日本シリカ工業株式会社

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