特許
J-GLOBAL ID：200903076907501886
基板処理装置,基板処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大山 浩明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-089411
公開番号（公開出願番号）：特開2009-246071
出願日： 2008年03月31日
公開日（公表日）： 2009年10月22日
要約：
【課題】基板保持部を高温に加熱して基板の被処理面に沿ってガスの流れを形成する際に,ガスの供給による基板保持部の上流側の温度低下を抑えて基板保持部の温度の均一性を向上させる。【解決手段】一端側から他端側にガスの流れが形成される処理容器102と,そのガス流路の途中に設けられ,ウエハを保持する基板保持部108と,基板保持部を加熱してウエハを加熱する基板保持部加熱部140と,基板保持部よりも上流側に設けられた処理ガス供給ノズル206と,それよりもさらに上流側に設けられたキャリアガス供給ノズル226と,処理ガス供給ノズルよりも上流側において,ガス流路に供給されるキャリアガスを加熱するキャリアガス加熱部240とを設けた。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板の被処理面に沿って処理ガスの流れを形成することによって,前記基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって,
筒状に形成されその内部に一端側から他端側に向かうガス流路を形成する処理容器と,
前記ガス流路の途中に設けられ,前記基板を保持する基板保持部と,
前記基板保持部を加熱して前記基板を加熱する基板保持部加熱部と,
前記ガス流路の前記基板保持部よりも上流側に設けられた処理ガス供給ノズルから前記処理ガスを前記ガス流路に供給する処理ガス供給部と,
前記ガス流路の前記処理ガス供給ノズルよりも上流側に設けられたキャリアガス供給ノズルから前記処理ガスを移送するキャリアガスを前記ガス流路に供給するキャリアガス供給部と,
前記ガス流路の前記処理ガス供給ノズルよりも上流側において,前記ガス流路に供給される前記キャリアガスを加熱するキャリアガス加熱部と,
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (25件)：
4K030AA06
, 4K030AA10
, 4K030AA11
, 4K030AA17
, 4K030AA18
, 4K030BA37
, 4K030BB02
, 4K030CA05
, 4K030EA06
, 4K030FA10
, 4K030KA25
, 4K030KA39
, 4K030KA41
, 5F045AA03
, 5F045AB06
, 5F045AC01
, 5F045AC07
, 5F045AD18
, 5F045BB01
, 5F045DP04
, 5F045EE13
, 5F045EF08
, 5F045EK03
, 5F045EK06
, 5F045GB07
