感放射線性樹脂組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-153730
公開番号（公開出願番号）：特開2004-062154
出願日： 2003年05月30日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：

【課題】特にArFエキシマレーザーに代表される遠紫外線に対する感度、解像度が優れ、パターン形状等にも優れる新規な化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、(A)ヒドロキシル基あるいはカルボキシル基の水素原子がアルカリ溶解抑止能を有する酸解離性基で置換され、該酸解離性基が解離したときアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂、および(B1)1-(3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル)テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ-n-オクタンスルホネート、1-(4-n-ブトキシ-1-ナフチル)テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート等で代表されるスルホニウム塩と(B2)トリフェニルスルホニウムノナフルオロ-n-ブタンスルホネート等で代表されるスルホニウム塩とを含む感放射線性酸発生剤を含有する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)ヒドロキシル基あるいはカルボキシル基の水素原子がアルカリ溶解抑止能を有する酸解離性基で置換され、放射線の照射により発生した酸の作用により該酸解離性基が解離してアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂および(B)感放射線性酸発生剤を含有してなる感放射線性樹脂組成物であって、(B)成分が(B1)下記一般式(1)で表される化合物と(B2)下記一般式(2)で表される化合物とを含むことを特徴とする感放射線性樹脂組成物。

IPC (3件)：

G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , H01L21/30 502R

Fターム (11件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BG00 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (4件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-137757 出願人：ジェイエスアール株式会社
特許第4051931号
特許第4114354号

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