リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、およびそれらによって製造されたデバイス

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-262809
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110539
出願日： 2001年08月31日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：

【要約】【課題】プラズマ放射線源を備えるリソグラフィ投影装置において、放射線システム内に含まれるミラーに対する高速イオン等による損傷を低減するための手段を提供すること。【解決手段】装置内部のミラーを収容する空間に、ミラー表面上に保護キャップ層を生成する炭化水素ガスを供給する。空間内の炭化水素ガスの分圧は、空間内のバックグラウンド圧力および/またはミラーの反射率の変化に応答して制御され、それによりミラー上のキャップ層の厚さが許容可能な範囲内で維持される。キャップ層、および/または付加的な多層がミラー上に提供されている場合にはミラーの上層をスパッタ除去するために、炭化水素の分圧を増大させ、それにより清浄なミラー表面を提供する。使用される炭化水素はアルコールであってよく、その場合、生成されたキャップ層が自己終結する。

請求項（抜粋）：

放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、該投影ビームを所望のパターンに従ってパターニングするパターニング手段を支持するための支持構造体と、基板を保持するための基板テーブルと、前記パターニングされたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを有するリソグラフィ投影装置において、ミラーを収容している空間にガス状炭化水素を供給するためのガス供給手段と、前記ミラーの反射率を監視するための反射率センサ手段および前記空間内のバックグラウンド圧力を監視するための圧力センサ手段のうちの少なくとも一方と、前記反射率センサ手段および/または圧力センサ手段によってそれぞれ測定された反射率および/またはバックグラウンド圧力に応答して前記ガス供給手段を制御するための制御手段とを有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 F

Fターム (10件)：

2H097AA03 , 2H097BB02 , 2H097CA06 , 2H097CA17 , 2H097JA02 , 2H097LA10 , 5F046AA22 , 5F046CB02 , 5F046DA27 , 5F046DB03

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平4-233717
特開平2-042713
特開昭58-225636

全件表示

前のページに戻る